氮化硅薄膜生长随时间演化过程及其特性研究
摘要:氮化硅 SiNx 薄膜凭借介电常数高和稳定性好的特点而被广泛应用于光电器件中,但薄膜的厚度对器件的性能有重要影响。 针对此问题采用等离子体化学气相沉积技术,以高纯 NH3 、N2 和 SiH4 …
氮化硅薄膜
摘要:氮化硅 SiNx 薄膜凭借介电常数高和稳定性好的特点而被广泛应用于光电器件中,但薄膜的厚度对器件的性能有重要影响。 针对此问题采用等离子体化学气相沉积技术,以高纯 NH3 、N2 和 SiH4 …
